2024-05-24
公司对光电显示材料的定位是突破发展，项目目前还处于新技术开发和项目储备阶段，主要产品包括偏光片保 护膜用胶系列和OCA光学胶系列
光刻胶是光刻工艺的关键材料，光刻工艺是集成电路制造的核心工艺。光刻胶是利用光化学 反应，经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，是光 刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工 制作。在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工 艺，占芯片制造时间40%-50%以集成电路为例，光刻工艺的过程可概括为涂胶、曝光、 显影等环节。涂胶：在晶圆衬底片上涂覆光刻胶，并进行前烘去除溶剂；曝光：透 过掩膜版，经紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射曝光，使曝光部分的感光组 分发生化学反应；显影：烘烤后通过显影将光刻胶部分溶解，形成图形从掩膜版到衬底 片的转移。