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公司依托与国内外知名企业长期合作积淀的合成纯化技术经验、金属离子精准分析检测与高效去除能力、成熟的中试及规模化量产优势，在国内以及日、韩市场建立的良好品牌口碑，公司自 2020 年起布局半导体光刻胶单体、膜材料中间体等光刻胶关键材料的研发，聚焦高端光刻胶材料赛道。目前核心产品涵盖半导体光刻胶单体、TFT 平坦层光刻胶及膜材料中间体，其中膜材料中间体主要应用于显示面板光学膜领域；光刻胶材料体系则包含显示用光刻胶与半导体光刻胶单体，半导体光刻胶单体以 ArF、KrF 及 EUV 光刻胶单体为核心，显示用光刻胶以 TFT 平坦层光刻胶为主。

鉴于光刻胶行业技术壁垒高、客户验证周期长的特点，公司已成功开发多款光刻胶材料，业务实现快速拓展，产品现已批量应用于中、韩、日等多国知名企业。